吉林石化ABSGE150抗冲击高强度ABS
单层膜退火应力特性表征，其具体过程为:对单层高和/或低折射率薄膜进行退火热处理，得到相应的应力变化特性，具体表现为低折射率薄膜应力性质不变，高折射率薄膜应力性质发生反转；
多层膜膜系设计，其具体过程为:根据得到的单层膜应力变化特性，采用交替沉积补偿应力的方式设计多层膜系，并制备得到多层薄膜；
根据步骤(2)得到的应力变化规律，并结合公式：σh(th，t)th+σl(tl，t)tl＝0，其中σh、σl分别为高、低折射率材料薄膜应力，th、tl分别为高、低折射率材料薄膜厚度，t为退火温度，采用交替沉积补偿应力的方式设计多层膜系，其中包括：增透膜、高反膜、分光膜、截止滤光片等；
多层膜制备，其具体过程为:结合步骤(3)设计的多层膜，采用双离子束溅射的方法于基片表面交替沉积高折射率和低折射率薄膜，完成多层膜系的制备；
将沉积完的多层膜进行退火热处理，补偿多层薄膜应力，实现多层膜应力控制,其具体过程为:对多层薄膜进行退火热处理，利用低折射率材料应力性质不变，而高折射率材料应力性质反转的变化特性，多层膜可以实现应力自补偿，达到多层膜应力消除的目的。
使用本方法可以在确保良好的薄膜光学特性的前提下对薄膜应力进行宏观调控。本发明可以为光学元件保形技术提供理论指导，可以为复杂光学薄膜、强光光学元件等的生产提供样品。
整个退火热处理过程中，退火温度维持在室温-500℃，此温度范围内不会对单层薄膜或多层膜系以及基片光学特性造成损伤。这样就增加了光学元件材料的种类。利于光学元件保形技术在更多的光学材料上得到应用。
